3月11日消息，在近期的消息中，荷兰芯片制造设备公司ASML表示，新的出口管制措施将针对先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。而对于浸润式光刻系统，新的出口管制措施将专注于所谓的“最先进”设备，即TWINSCAN NXT:2000i及其后续推出的浸润式光刻系统。目前，ASML公司并未收到“最先进”设备的确切定义，但将其解读为在资本市场日会议上定义的“关键的浸润式光刻系统”。
浸润式光刻机是一种可用于16纳米至7纳米先进制程芯片制造的设备，但同时也广泛应用于45纳米及以下的成熟制程。不过，ASML指出，其管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而是只对“最先进”的设备施加管制。ASML认为，相对较低先进程度的浸润式光刻系统已能很好地满足成熟制程客户的需求。该公司表示，其长期展望的基础是全球长期需求和技术趋势，而不是对具体地域的预期。
据了解，在ASML官网上的资料显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明中提到的设备。值得注意的是，在分辨率方面，TWINSCAN NXT:1980Di支持的是大于等于38纳米的分辨率，尽管理论上仍然可以达到7纳米，但需要更为复杂的步骤，成本更高，良率也可能会受到影响。因此，晶圆厂大多使用该设备生产14纳米及以上工艺的芯片。
ASML公司预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右，同时正在加快拓展在中国的业务和销售。不过，自2019年以来，ASML的EUV光刻系统已经受到限制。ASML表示，该公司将持续关注相关法规和管制措施，同时也将努力维护其客户的利益。
